Dieses Buch liefert einen tiefgehenden Einblick in die Synthese, Charakterisierung und das Verhalten von Hafnium‑Oxid‑ und Silikatfilmen, die mittels chemischer Dampfphasenabscheidung aufgebracht werden, und zeigt ihre Bedeutung als High‑k‑Materialien für die nächste Generation von Transistoren.