Khelifati, Nabil: Dopage au bore du silicium amorphe hydrogène déposé par | Kaicus Deutschland

Khelifati, Nabil: Dopage au bore du silicium amorphe hydrogène déposé par pulvérisation

59.90 EUR

Dieses Buch führt durch die präzise Bor‑dopeung amorphen Siliziumhydrogenschichten, erklärt das DC-Magnetron-Pulverisationsverfahren, beleuchtet Struktur, Leitfähigkeit und Anwendungsfelder in Halbleiterbauelementen.

Marke: Nabil Khelifati
ISBN: 9783838179919
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